黑硅具有良好的陷光特性和極低的光反射率(

近日,中國(guó)科學(xué)院微電子研究所四室研究員賈銳的科研團(tuán)隊(duì)在新型黑硅電池研究方面取得新進(jìn)展。

 黑硅具有良好的陷光特性和極低的光反射率(<1%),在高效率、低成本晶體硅電池方面有著重要的產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用前景,是國(guó)際關(guān)注的研究熱點(diǎn)領(lǐng)域。目前,黑硅太陽能電池效率提升存在諸多瓶頸,主要原因之一是其表面納米結(jié)構(gòu)大于表面積、納米結(jié)構(gòu)之間存在高密度的間隙,造成載流子橫向輸運(yùn)能力差、電極接觸性能不佳等問題,使黑硅良好的陷光特性無法在高效晶體硅太陽能電池中得到充分應(yīng)用。

 鑒于ZnO納米線優(yōu)異的光電特性和較高的載流子遷移率,賈銳團(tuán)隊(duì)創(chuàng)新性地將ZnO納米線引入黑硅太陽能電池,在硅納米結(jié)構(gòu)間隙生長(zhǎng)出橫向接觸的ZnO納米線。橫向接觸的ZnO納米線能夠促進(jìn)光生載流子的橫向輸運(yùn)與收集,有效降低了接觸電阻,提高了電池效率。ZnO納米線黑硅電池的I-V特性、光譜響應(yīng)及量子效率等測(cè)試結(jié)果表明,ZnO納米線的嵌入未改變黑硅電池良好的陷光特性,且明顯改善了電極接觸及載流子輸運(yùn)等特性,這從原理角度證明了ZnO納米線有助于黑硅電池效率的提升。ZnO材料成本低,制備工藝簡(jiǎn)單,與現(xiàn)有的晶體硅電池工藝具有良好的工藝兼容性,具有廣闊的應(yīng)用前景。賈銳團(tuán)隊(duì)目前正致力于將該創(chuàng)新成果及技術(shù)向高效背接觸和異質(zhì)結(jié)背接觸電池研究方面轉(zhuǎn)移。

 上述研究成果已申請(qǐng)了國(guó)家發(fā)明專利(專利申請(qǐng)?zhí)枺?01310123551.2)并發(fā)表于2015年2月的國(guó)際期刊Applied Physics Letters (DOI: 10.1063/1.4907645),受到了國(guó)際同行專家的高度評(píng)價(jià)。該項(xiàng)目得到國(guó)家高技術(shù)研究發(fā)展計(jì)劃(“863”計(jì)劃)資助,以及中國(guó)英利綠色能源控股有限公司的大力協(xié)助。

嵌入ZnO納米線的黑硅太陽能電池結(jié)構(gòu)示意圖 

嵌入ZnO納米線的黑硅內(nèi)量子效率對(duì)比 

[責(zé)任編輯:梁小婧]

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